সেমিকন্ডাক্টর পরিষ্কারের জন্য HFE 7200 Cas 163702 06 5 টেলিফোন:+086-592-5803997

পরবর্তী-প্রজন্মের ফ্লোরিনেটেড দ্রাবক হিসাবে, HFE 7200 এমন পরিবেশে নির্ভুল পরিচ্ছন্নতার মাপকাঠি সেট করে যেখানে পরম নির্ভরযোগ্যতা অ-আলোচনাযোগ্য নয়। অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা, ব্যতিক্রমী উপাদানের সামঞ্জস্য, এবং দ্রুত অবশিষ্টাংশ-মুক্ত বাষ্পীভবন সহ প্রকৌশলী, এটি সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন, অপটিক্স, ইলেকট্রনিক্স এবং চিকিৎসা যন্ত্র জুড়ে সর্বাধিক চাহিদাপূর্ণ পরিচ্ছন্নতার চ্যালেঞ্জ মোকাবেলা করে৷

সেমিকন্ডাক্টর ক্লিনিং: ওয়েফার সাবস্ট্রেটের ন্যানো-স্কেল এচের অবশিষ্টাংশ অপসারণ থেকে শুরু করে সংবেদনশীল অপটিক্যাল লেন্স এবং মেডিক্যাল এন্ডোস্কোপগুলিকে সূক্ষ্মভাবে পরিষ্কার করা পর্যন্ত, HFE 7200 সাবস্ট্রেটের অখণ্ডতার সাথে আপস না করেই ধারাবাহিক, পুনরাবৃত্তিযোগ্য কর্মক্ষমতা প্রদান করে। এটির অ-দাহ্য প্রকৃতি এবং কম বিষাক্ততা এটিকে স্বয়ংক্রিয় বাষ্প ডিগ্রীজিং সিস্টেম এবং ম্যানুয়াল ক্লিনিং প্রক্রিয়া উভয়ের জন্য একটি নিরাপদ পছন্দ করে তোলে, যখন এর পরিবেশগত প্রোফাইল বিশ্বব্যাপী টেকসইতার নির্দেশাবলীর সাথে সারিবদ্ধ হয়।

যেখানে প্রচলিত দ্রাবকগুলি কম পড়ে, সেখানে HFE 7200 এক্সেল - নিশ্চিত করে যে গুরুত্বপূর্ণ উপাদানগুলি পরিচ্ছন্নতা, কার্যকারিতা এবং দীর্ঘায়ুর সর্বোচ্চ মান পূরণ করে৷

HFE 7200 এর প্রধান সুবিধা টেলিফোন:+086-592-5803997

HFE 7200 এর মূল অ্যাপ্লিকেশন টেলিফোন:+086-592-5803997

1. সেমিকন্ডাক্টর এচিং ইকুইপমেন্টের ওয়েট ক্লিনিং; লিকুইড ক্রিস্টাল এবং হার্ড ডিস্কের উপাদান পরিষ্কার করা
HFE 7200 সেমিকন্ডাক্টর ফ্যাব্রিকেশনের জন্য উন্নত ওয়েট ক্লিনিং প্রক্রিয়ায় ব্যাপকভাবে ব্যবহার করা হয়, বিশেষ করে ওয়েফার এবং চেম্বারের উপাদানগুলি থেকে ইচের অবশিষ্টাংশ অপসারণের জন্য। এর ব্যতিক্রমী বিশুদ্ধতা, নিম্ন পৃষ্ঠের টান, এবং দ্রুত বাষ্পীভবন আয়নিক বা কণা দূষক না রেখে পুঙ্খানুপুঙ্খ পরিচ্ছন্নতা নিশ্চিত করে। ডিসপ্লে এবং ডেটা স্টোরেজ শিল্পে, এটি সূক্ষ্ম লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে (LCD) প্যানেল এবং হার্ড ডিস্ক ড্রাইভ (HDD) উপাদানগুলি পরিষ্কার করার জন্য, তেল, কণা এবং জৈব অবশিষ্টাংশগুলি নির্মূল করার সময় অপটিক্যাল স্বচ্ছতা এবং যান্ত্রিক নির্ভুলতা সংরক্ষণের জন্য সমানভাবে কার্যকর।

2. লেজার সরঞ্জাম পরিষ্কার এবং অপটিক্যাল লেন্স পরিষ্কার
এর অ-ক্ষয়কারী এবং অবশিষ্টাংশ-মুক্ত বৈশিষ্ট্যের কারণে, HFE 7200 উচ্চ-পারফরম্যান্স অপটিক্যাল সিস্টেম বজায় রাখার জন্য আদর্শ। এটি লেজার অপটিক্স, লেন্স, আয়না এবং সেন্সর থেকে ধুলো, আঙুলের ছাপ এবং আবরণ নিরাপদে অপসারণ করে-প্রতিফলিত বা বিশেষ আবরণের ক্ষতি না করে। এটির দ্রুত-শুকানো প্রকৃতি স্ট্রিকিং প্রতিরোধ করে, লিথোগ্রাফি, লেজার কাটিং, মেডিকেল ইমেজিং এবং বৈজ্ঞানিক যন্ত্রের মতো গুরুত্বপূর্ণ অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে সর্বোত্তম আলো সংক্রমণ এবং সিস্টেমের নির্ভুলতা নিশ্চিত করে।

3. যথার্থ ইলেকট্রনিক উপাদান পরিষ্কার করা
HFE 7200 প্রিন্টেড সার্কিট বোর্ড (PCBs), সংযোগকারী, রিলে এবং মাইক্রোইলেক্ট্রোমেকানিক্যাল সিস্টেম (MEMS) সহ সংবেদনশীল ইলেকট্রনিক সমাবেশগুলি থেকে হ্রাস এবং ফ্লাক্স অপসারণের জন্য একটি অত্যন্ত নির্ভরযোগ্য দ্রাবক হিসাবে কাজ করে। এর কম বিষাক্ততা এবং উচ্চতর উপাদানের সামঞ্জস্য প্লাস্টিক, ইলাস্টোমার এবং ধাতুগুলিতে নিরাপদ ব্যবহারের অনুমতি দেয়, উচ্চ অস্তরক নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করার সময় ফোলা, ফাটল বা বৈদ্যুতিক অবক্ষয় প্রতিরোধ করে।

4. বিমান চলাচল এবং চিকিৎসা ক্ষেত্র (মেডিকেল লেন্স পরিষ্কার, বিশেষ সংবেদনশীল উপকরণ)
এভিয়েশনে, HFE 7200 ব্যবহার করা হয় অ্যাভিওনিক্স, নেভিগেশন সিস্টেম এবং সংবেদনশীল যৌগিক উপাদান পরিষ্কার করতে তাদের কাঠামোগত বা বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্যগুলিকে প্রভাবিত না করে। মেডিক্যাল ডিভাইস তৈরি এবং রক্ষণাবেক্ষণে, এটি এন্ডোস্কোপ লেন্স, সার্জিক্যাল টুলিং, ডায়াগনস্টিক সেন্সর এবং অন্যান্য জৈব সামঞ্জস্যপূর্ণ উপাদান পরিষ্কার করার জন্য প্রয়োগ করা হয়, যেখানে বন্ধ্যাত্ব, অ-প্রতিক্রিয়াশীলতা, এবং শূন্য অবশিষ্টাংশ সর্বোত্তম।

5. সৌন্দর্য এবং প্রসাধনী অ্যাপ্লিকেশন (মেকআপ/মেকআপ রিমুভার, ফেসিয়াল মাস্ক)
কসমেটিক ফর্মুলেশনে, HFE 7200 একটি উদ্বায়ী বাহক বা দ্রাবক হিসাবে কাজ করে যেমন লম্বা-মেকআপ পরিধান, জলরোধী মেকআপ রিমুভার এবং শীট মাস্ক। এর মৃদু, বিরক্তিকর নয়- বৈশিষ্ট্য এবং দ্রুত বাষ্পীভবন একটি চর্বিযুক্ত অবশিষ্টাংশ না রেখে সক্রিয় উপাদানগুলিকে সমানভাবে সরবরাহ করতে সাহায্য করে, ব্যবহারকারীর অভিজ্ঞতা এবং পণ্যের স্থায়িত্ব বাড়ায়।

6. বাষ্প কমানোর জন্য ক্লিনিং এবং রিন্সিং এজেন্ট
ধাতু, সিরামিক এবং পলিমার অংশ থেকে তেল, গ্রীস এবং মোম অপসারণের জন্য বন্ধ-লুপ বাষ্প ডিগ্রীজিং সিস্টেমে HFE 7200 একটি পছন্দের দ্রাবক। এর কম স্ফুটনাঙ্ক এবং উচ্চ স্থিতিশীলতা দক্ষ ঘনীভবন এবং পুনরুদ্ধারের অনুমতি দেয়, শিল্প-গ্রেড পরিচ্ছন্নতা অর্জনের সময় দ্রাবক খরচ এবং পরিবেশগত প্রভাবকে কমিয়ে দেয়।

7. লুব্রিকেন্ট ক্যারিয়ার
বিশেষায়িত লুব্রিকেন্ট এবং অ্যান্টি{0}}জব্দ যৌগগুলির বাহক তরল হিসাবে, HFE 7200 জটিল যান্ত্রিক সমাবেশগুলিতে লুব্রিকেটিং কণা বা সংযোজনগুলির সমান প্রয়োগের সুবিধা দেয়। এটি প্রয়োগের পরে দ্রুত বাষ্পীভূত হয়, ধুলো আকর্ষণ না করে বা সহনশীলতায় হস্তক্ষেপ না করে একটি ইউনিফর্ম, পাতলা লুব্রিকেটিং ফিল্ম রেখে যায়।

8. বিশেষায়িত দ্রাবক, বিচ্ছুরণ মাধ্যম, বিক্রিয়া মাঝারি, এবং নিষ্কাশন দ্রাবক
HFE 7200 R&D এবং উচ্চমূল্যের রাসায়নিক প্রক্রিয়ায় নিযুক্ত করা হয় ন্যানোম্যাটেরিয়ালগুলিকে বিচ্ছুরণ, নিয়ন্ত্রিত রাসায়নিক বিক্রিয়া পরিচালনা বা সংবেদনশীল যৌগ নিষ্কাশনের জন্য একটি নিষ্ক্রিয় মাধ্যম হিসাবে। এর রাসায়নিক স্থিতিশীলতা, অ-পোলারিটি, এবং কম প্রতিক্রিয়াশীলতা এটিকে উন্নত উপকরণ, ফার্মাসিউটিক্যালস এবং সূক্ষ্ম রাসায়নিকগুলি পরিচালনার জন্য উপযুক্ত করে তোলে।

9. সিএফসি, এইচসিএফসি, এইচএফসি, এবং পিএফসিগুলির জন্য প্রতিস্থাপন
ওজোন-ক্ষয়কারী এবং উচ্চ-গ্লোবাল-উষ্ণায়ন-সম্ভাব্য (GWP) দ্রাবকগুলির একটি পরিবেশগতভাবে দায়ী বিকল্প হিসাবে, HFE 7200 শূন্য ওজোন ক্ষয় সম্ভাবনা (ODP) এবং উল্লেখযোগ্যভাবে কম GWP এর সাথে তুলনামূলক বা উচ্চতর কর্মক্ষমতা প্রদান করে। এটি মন্ট্রিল এবং কিয়োটো প্রোটোকলের মতো আন্তর্জাতিক পরিবেশগত বিধিগুলির সাথে সম্মতি সমর্থন করে৷

10. তাপ স্থানান্তর তরল
HFE 7200 একক-ফেজ বা দুই-ফেজ কুলিং সিস্টেমে ইলেকট্রনিক্স, লেজার সিস্টেম, এবং ল্যাবরেটরি সরঞ্জাম ব্যবহার করা হয়। এর তাপীয় স্থিতিশীলতা, অ-দাহনীয়তা, এবং ডাইইলেক্ট্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি উচ্চ-পারফরম্যান্স কম্পিউটিং এবং পাওয়ার ইলেকট্রনিক্সের জন্য নিমজ্জন কুলিং সহ প্রত্যক্ষ-যোগাযোগ বা পরোক্ষ কুলিং অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে দক্ষ এবং নিরাপদ তাপ অপচয় করতে সক্ষম করে।

hFE 7200 ডেটা শীট টেলিফোন:+086-592-5803997

চেহারা এবং বৈশিষ্ট্য	বর্ণহীন স্বচ্ছ তরল	গন্ধ	গন্ধহীন
1atm এ স্ফুটনাঙ্ক	156-160 ডিগ্রী	হিমাঙ্ক	-84.9 ডিগ্রী

তরলের ঘনত্ব (25 ডিগ্রি)	1.810 g·mL^-1	ফ্ল্যাশ পয়েন্ট	না

অস্তরক ক্ষতি (10 MHz)	0.00418	ভলিউম প্রতিরোধ ক্ষমতা	1.579×1011 Ω·mm এর থেকে বড় বা সমান
প্রতিসরণকারী সূচক	1.308	আয়তনের প্রসারণের সহগ (20-80 ডিগ্রি)	5.420×10^-3

গতিশীল সান্দ্রতা (25 ডিগ্রী)	3.05 mm2·s^-1	নির্দিষ্ট তাপ	1.151 J·g^-1·K^-1

তাপ পরিবাহিতা সহগ (25 ডিগ্রি)	0.0656W∙m-1∙K^-1	পৃষ্ঠ টান	17.51 mN·m^-1

অস্তরক শক্তি (2.5 মিমি)	50.4 কেভি	অস্তরক ধ্রুবক (1 MHz)	4.75

ওডিপি	0	জিডব্লিউপি	180